Towards high purity nanostructures from electron beam induced deposition of platinum

Towards high purity nanostructures from electron beam induced deposition of platinum

Botman, A.P.J.M.

Kruit, P. (promotor)
Hagen, C.W. (promotor)

Applied Sciences

Imaging Science & Technology

2009-12-21

Electron beam induced deposition (EBID) is a novel nanofabrication technique allowing the rapid prototyping of three-dimensional nanodevices and the metallic wiring of nanostructures, and is a promising technique for many applications in nanoresearch. EBID is a process wherein a precursor molecule containing the material to be deposited is adsorbed onto a substrate and is dissociated under the influence of a focused electron beam. After the dissociation, part of the precursor leaves as a volatile fragment whilst the rest remains on the substrate to form material build-up (deposit). Until now, the conductivity of material deposited by EBID was poor. Significant progress has been made through this work regarding the improvement in conductivity of EBID-created platinum nano- and microstructures; platinum deposits created in the traditional manner have a resistivity of 10^7 micro-Ohm-cm; we have now achieved a resistivity of 215 micro-Ohm-cm. Gefocusseerde elektronenbundel-geïnduceerde depositie (EBID) is een nieuwe nanofabricage techniek die snelle prototyping van driedimensionele nanodevices en de metaal bedrading van nanostructuren mogelijk maakt, en is een veelbelovende techniek voor vele toepassingen in nano-onderzoek. EBID is een proces waarin een voorlopermolekuul, dat het te deponeren materiaal bevat, op een substraat wordt geadsorbeerd en onder de invloed van een gefocusseerde elektronenbundel wordt ontleed. Na het ontleden gaat een deel van het molekuul weg als vluchtig fragment terwijl de rest op het substraat achterblijft als het boogde deposiet. Tot nu toe was het geleidingsvermogen van EBID deposieten schlecht. Een aanzienlijke vooruitgang is geboekt, in de loop van het beschreven onderzoek, betreffende het verbeteren van het geleidingsvermogen van EBID platina nano- en microstructuren: platina deposieten van EBID hebben traditioneel een soortelijke weerstand van 10^7 micro-Ohm-cm; wij kunnen nu een soortelijke weerstand van 215 micro-Ohm-cm krijgen.

nanofabrication
electron beam induced deposition

http://resolver.tudelft.nl/uuid:86e39f88-dfdb-46c3-b69d-b2d06aded1b5

9789053352403

Institutional Repository

doctoral thesis

(c) 2009 Botman, A.P.J.M.