Title
Microfabrication of large-area circular high-stress silicon nitride membranes for optomechanical applications
Author
Serra, E. (TU Delft Electronic Components, Technology and Materials; Trento Institute for Fundamental Physics and Application) 
Bawaj, M. (University of Camerino; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia)
Borrielli, A. (Trento Institute for Fundamental Physics and Application; Institute of Materials for Electronics and Magnetism, Nanoscience-Trento-FBK Division)
Di Giuseppe, G. (University of Camerino; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia)
Forte, S. (TU Delft EKL Processing; Università di Trento)
Kralj, N. (University of Camerino)
Malossi, N. (University of Camerino; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia)
Marconi, L. (Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze; CNR-INO; University of Florence)
Marin, F. (University of Florence; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze; European Laboratory for Non-linear Spectroscopy (LENS))
Marino, F. (CNR-INO; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze)
Morana, B. (TU Delft EKL-Users)
Natali, R. (University of Camerino; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia)
Pandraud, G. (TU Delft EKL Processing)
Pontin, A. (University of Florence; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze)
Prodi, G.A. (Trento Institute for Fundamental Physics and Application; Università di Trento)
Rossi, M. (University of Camerino)
Sarro, Pasqualina M (TU Delft Electronic Components, Technology and Materials)
Vitali, D. (University of Camerino; Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia)
Bonaldi, M. (Trento Institute for Fundamental Physics and Application; Institute of Materials for Electronics and Magnetism, Nanoscience-Trento-FBK Division)
Date
2016
Abstract
In view of the integration of membrane resonators with more complex MEMS structures, we developed a general fabrication procedure for circular shape SiNx membranes using Deep Reactive Ion Etching (DRIE). Large area and high-stress SiNx membranes were fabricated and used as optomechanical resonators in a Michelson interferometer, where Q values up to 1.3 × 106 were measured at cryogenic temperatures, and in a Fabry-Pérot cavity, where an optical finesse up to 50000 has been observed.
To reference this document use:
http://resolver.tudelft.nl/uuid:41b8ab3f-1083-454c-bd29-d137586bf6cd
DOI
https://doi.org/10.1063/1.4953805
ISSN
2158-3226
Source
AIP Advances, 6, 065004-1/065004-8
Part of collection
Institutional Repository
Document type
journal article
Rights
© 2016 E. Serra, M. Bawaj, A. Borrielli, G. Di Giuseppe, S. Forte, N. Kralj, N. Malossi, L. Marconi, F. Marin, F. Marino, B. Morana, R. Natali, G. Pandraud, A. Pontin, G.A. Prodi, M. Rossi, Pasqualina M Sarro, D. Vitali, M. Bonaldi